工业烤箱均设有温度均匀度参数：自然对流式的工业烤箱为工作温度上限乘3%，强制对流式的工业烤箱为工作温度上限乘2.5%。惟独真空烤箱不设温度均匀度参数，这是为什么？真空烤箱内依靠气体分子运动使工作室温度达到均匀的可能性几乎已经没有了。
真空烤箱一般都采用先加热真空室壁面、再由壁面向工件进行辐射加热的方式。在这种方式下，控温仪表的温度传感器可以布置在真空室外壁。传感器可以同时接受对流、传导、和辐射热。而处于真空室里的玻璃棒温度计只能接受辐射热，更由于玻璃棒黑度不可能达到1，相当一部分辐射热被折射了，因此玻璃棒温度计反映的温度值就肯定低于仪表的温度读数。
一般讲，300℃工况时仪表的温度读数与玻璃棒温度计的读数两者相差30℃以内是正常的。如果控温仪表的温度传感器布置在真空室内，玻璃棒温度计的温度值与仪表的温度读数之间的差异可以适当缩小，但不可能消除，而真空室的密封可靠性增加了一个可能不可靠环节。如果从操作实用角度考虑不希望看到这个差异，可以采用控温仪表特有的显示修正功能解决。
因此，从概念上我们就不能再把工业烤箱所规定的温度均匀度定义用到真空烤箱上来。
在真空状态下设这个指标也是没有意义的。热辐射的量与距离的平方成反比。同一个物体，距离加热壁20cm处所接受的辐射热只是距离加热壁10cm处的1/4。差异很大。这种现象与冬天晒太阳时，晒到太阳的一面很暖和，晒不到太阳的一面比较冷是一个道理。由于真空烤箱在结构上很难做到使工作室三维空间内的各点辐射热的均匀一致，同时也缺乏权威的评估方法，这有可能是真空烤箱不设温度均匀度参数的原因。
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